名片曝光使用說(shuō)明

步驟1：創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼，進(jìn)入虎易名片小程序，使用微信授權(quán)登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2：投放名片

創(chuàng)建名片成功后，將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開(kāi)啟名片曝光服務(wù)，服務(wù)費(fèi)用為：1虎幣/天。(虎幣充值比率：1虎幣=1.00人民幣)

關(guān)于曝光服務(wù)

名片曝光只限于使用免費(fèi)模板的企業(yè)產(chǎn)品詳細(xì)頁(yè)下，因此當(dāng)企業(yè)使用收費(fèi)模板時(shí)，曝光服務(wù)將自動(dòng)失效，并停止扣除服務(wù)費(fèi)。

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主要用途是生產(chǎn)各種金屬膜電阻及氧化膜電阻的專用設(shè)備，可以完成高、中、低不同阻值的鍍膜工藝。 主要組成設(shè)備由真空室、真空機(jī)組、直流濺射源、射頻濺射源、分流式滾筒、充氣裝置、真空測(cè)量及其它輔助裝置等組成。 主要特點(diǎn)★生產(chǎn)能力大，根據(jù)型號(hào)的不同，每爐可鍍制裝載量達(dá)分別為10～11Kg、20～25Kg、30～40Kg左右的瓷體?！锎趴貫R射源工作特性穩(wěn)定，沉積速率高，陰極體采用可變磁場(chǎng)，大大提高了靶材的利用率，在40%以上?！锔鶕?jù)不同電阻值和工藝要求配置不同濺射源，工藝適應(yīng)性強(qiáng)。如配置射頻濺射源可鍍制介質(zhì)膜，配備離化源可鍍制氧化膜?！锊捎锰厥夥至魇綕L筒，瓷體鍍制膜層均勻，阻值集中?！锶缗溆肞LC可編程控制，設(shè)備自動(dòng)化水平提高，性能更加，操作更為簡(jiǎn)便。★調(diào)節(jié)沉積室的氣氛可控沉積膜的阻值和TCR（溫度系數(shù)）；鍍制后電阻在合適的“后調(diào)整”熱處理后TCR可接近于零。
產(chǎn)品推薦
“真空磁控濺射電阻鍍膜設(shè)備”信息由發(fā)布人自行提供，其真實(shí)性、合法性由發(fā)布人負(fù)責(zé)。交易匯款需謹(jǐn)慎，請(qǐng)注意調(diào)查核實(shí)。