多晶硅還原爐體及鐘罩干式清掃裝置使用時(shí)利用上下移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)高壓氣體噴吹以及特殊旋轉(zhuǎn)刷組合機(jī)構(gòu)近距離對(duì)反應(yīng)釜表面進(jìn)行噴吹和接觸式清掃達(dá)到清洗的目的。通過(guò)清洗旋轉(zhuǎn)調(diào)速機(jī)構(gòu)可滿足各工況的要求。清洗的同時(shí)采用特殊除塵凈化器一次性進(jìn)行除塵凈化。 我公司生產(chǎn)銷(xiāo)售清洗機(jī)、氣浮機(jī)、保護(hù)膜、紫銅管、液位計(jì)。 ■適用范圍 　　硅烷法多晶硅生產(chǎn)工藝。 　　用于還原車(chē)間反應(yīng)釜中硅污染物附著力不大的工況條件下無(wú)污染干式清洗。 　　■工作原理 　　清洗時(shí)利用上下移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)高壓氣體噴吹以及特殊旋轉(zhuǎn)刷組合機(jī)構(gòu)近距離對(duì)反應(yīng)釜表面進(jìn)行噴吹和接觸式清掃達(dá)到清洗的目的。通過(guò)清洗旋轉(zhuǎn)調(diào)速機(jī)構(gòu)可滿足各工況的要求。清洗的同時(shí)采用特殊除塵凈化器一次性進(jìn)行除塵凈化。 　　■工藝流程 　　反應(yīng)釜吊裝至清洗臺(tái)上—定位—連接、啟動(dòng)凈化器—啟動(dòng)旋轉(zhuǎn)、上下移動(dòng)機(jī)構(gòu)—高壓氣體沿壁噴吹—旋轉(zhuǎn)刷至上而下接觸移動(dòng)清掃—凈化氣體置換—反應(yīng)釜吊起—檢查。 　　■設(shè)備組成及配置 　　主要由清洗平臺(tái)、氣體噴吹裝置、吸塵輸送管道、控制閥門(mén)、動(dòng)力機(jī)構(gòu)、清洗機(jī)構(gòu)、各管道快速接頭、除塵凈化器、電氣控制系統(tǒng)等組成。 　　主要部件采用零部件，確保運(yùn)行穩(wěn)定、使用周期長(zhǎng)。操作維修簡(jiǎn)單。 　　■設(shè)備特點(diǎn) 　　1)裝置為移動(dòng)單元式結(jié)構(gòu)。 　　2)凈化后的空氣可達(dá)到10萬(wàn)級(jí)的凈化精度可完全在室內(nèi)排放。 　　3)采用全封閉干式的清洗方式確保對(duì)環(huán)境不出現(xiàn)二次污染。 　　4)電氣設(shè)計(jì)按隔爆的各項(xiàng)要求執(zhí)行、 設(shè)備設(shè)有靜電導(dǎo)出裝置。 　　5)控制方式可為全自動(dòng)或手動(dòng)控制。 原文章來(lái)自于無(wú)錫市輝順科技開(kāi)發(fā)有限公司 網(wǎng)址：清洗機(jī)http://www.wxshs.com/product.asp