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除臭原理
光化學(xué)離子除臭工藝是一種安全的處理方法，除臭效率高。其原理為離子輻射直接活化臭氣分子發(fā)生分解的直接反應(yīng)與輻射活化其它氣體分子再分解臭氣分子的間接反應(yīng)相結(jié)合的一種氧化技術(shù)，綜合利用了高強輻射場離子對惡臭物質(zhì)的破壞作用和氧對惡臭物質(zhì)的氧化去除作用來去除惡臭氣體中硫化氫、氨、甲硫醇等VOC（揮發(fā)性有機物），并利用了水與氧在強輻射下分解所產(chǎn)生的活潑的次生氧化劑（OH自由基）來氧化分解惡臭氣體，改變臭氣分子的物化特性，終污染物質(zhì)被活性氧分解成CO2、水和其他小分子化合物以達(dá)到除臭目的。高強輻射場和氧一道，存在一個協(xié)同作用，這種協(xié)同作用使該技術(shù)對惡臭的祛除速率得到7至9個數(shù)量級的增加，即反應(yīng)速度增加千萬至十億倍。整個除臭過程中受外界影響少，所有的產(chǎn)物對人體及空氣無影響，不產(chǎn)生二次污染物。
