曝光裝置是一種成像裝置，即在靜電復(fù)印過(guò)程中，將原稿圖像通過(guò)光源及光今不統(tǒng) 所形成的光像，終在光導(dǎo)層表面形成0電潛像. 曝光裝置性能的好壞和曝光光源的特性，對(duì)于復(fù)印質(zhì)量有直接影響.因此，應(yīng)滿足 下列要求: ·光源和鏡頭的光譜響應(yīng)，應(yīng)與光導(dǎo)體相匹配， ·光源有足夠的光強(qiáng)，能在較短的時(shí)間內(nèi)使敏化的光導(dǎo)體迅速消電， 二應(yīng)選用電功率小和發(fā)光效率高的光源以減少其功率消耗， ·光路系統(tǒng)調(diào)節(jié)性能要好，通光效率應(yīng)高，即光的損耗少?gòu)S ·光路系統(tǒng)與光導(dǎo)體的同步誤差不得大于。. 5 %; ·在設(shè)計(jì)允許的條件下，曝光裝置的結(jié)構(gòu)應(yīng)使原稿得到較大的照度，并對(duì)原稿 ，整個(gè)照射面積上的照度均勻， ·曝光裝置應(yīng)有良好的散熱措施，特別是用熱光源時(shí)，其稿臺(tái)坡19表面的溫度，應(yīng) 在連續(xù)復(fù)印時(shí)，不超過(guò)700C, 顯影的主要目的是使靜電潛像得以顯示.而顯影裝置是籽電復(fù)印過(guò)程中嚴(yán)重影響I 印質(zhì)量的重要因素.顯影裝置結(jié)構(gòu)的優(yōu)劣，性能的好壞，維護(hù)、使用得當(dāng)?shù)? J .}i_ j.C 影響復(fù)印品的質(zhì)。因此，確保顯影裝R的性能良好，參數(shù)正確，是獲得復(fù)印品的 于有效. 靜電復(fù)印過(guò)程中，對(duì)顯影裝置的基本要求有如下幾個(gè)方而: (1)對(duì)光導(dǎo)體能連續(xù)供給一定數(shù)量的顯影劑; (2)將顯影劑均勻撒布在光導(dǎo)體上; (3 )顯影裝置的摩擦帶電特 性，應(yīng)與所用的色粉和載體相適 應(yīng)，即色粉和載體的摩擦帶電特性 彌，則顯影裝置的摩擦帶電性能可 弱:反之應(yīng)強(qiáng); “)色粉的摩擦帶電量， 應(yīng)與所用光電導(dǎo)材料相匹配， (5)色粉的消耗和補(bǔ)充達(dá) 到平衡.