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產(chǎn)品原理
磁控濺射電源的陽(yáng)極、陰極分別連接做基體和靶材上,將一個(gè)強(qiáng)烈磁控管裝置做靶材后部。當(dāng)鍍膜室被抽成真空狀態(tài)時(shí),充入一下氬氣等惰性氣體,鍍膜室內(nèi)的高壓將氬原子電離成電子和氬離子,形成等離子異常輝光放電。電離出來(lái)的電子在高壓電場(chǎng)的作用下,做加速運(yùn)動(dòng),不斷與氬原子發(fā)生強(qiáng)烈碰撞,這樣產(chǎn)生許多二次電子和氬離子。電子經(jīng)過(guò)多次碰撞,電子的動(dòng)能就會(huì)降低,從而脫離了磁力線的束縛,終落在鍍膜室內(nèi)壁、陽(yáng)極和集體上。氬原子受到多次氬離子碰撞,得到了大量動(dòng)能,從而脫離了原來(lái)晶格束縛,飛向基片,從而大量的靶材原子積累在基體表面、沉積形成薄膜。組成靶材各種材料都可以成為陰極靶,用來(lái)進(jìn)行濺射鍍膜。當(dāng)靶材的材料不同時(shí),磁控濺射工藝對(duì)電源輸出特性也不盡相同。
產(chǎn)品參數(shù)
輸