名片曝光使用說(shuō)明

步驟1：創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼，進(jìn)入虎易名片小程序，使用微信授權(quán)登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2：投放名片

創(chuàng)建名片成功后，將投放名片至該產(chǎn)品“同類(lèi)優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開(kāi)啟名片曝光服務(wù)，服務(wù)費(fèi)用為：1虎幣/天。(虎幣充值比率：1虎幣=1.00人民幣)

關(guān)于曝光服務(wù)

名片曝光只限于使用免費(fèi)模板的企業(yè)產(chǎn)品詳細(xì)頁(yè)下，因此當(dāng)企業(yè)使用收費(fèi)模板時(shí)，曝光服務(wù)將自動(dòng)失效，并停止扣除服務(wù)費(fèi)。

<

返回首頁(yè)

產(chǎn)品推薦
美國(guó)4Wave公司離子束鍍膜和刻蝕系統(tǒng) 產(chǎn)品概述 4Wave成立于2000年，主要人員及技術(shù)均源于美國(guó)的離子束技術(shù)公司Commonwealth Scientific。Commonwealth于2000年被Veeco收購(gòu)后，其主要的技術(shù)及管理高層離開(kāi)Commonwealth后，重新組建了4Wave公司。4Wave全心致力于研究與應(yīng)用離子束技術(shù)，主要產(chǎn)品為基于離子束技術(shù)的薄膜沉積及刻蝕系統(tǒng)，客戶(hù)群覆蓋大學(xué)、國(guó)防、先進(jìn)技術(shù)公司等領(lǐng)域。 4Wave技術(shù) 1. 低能高束流離子源 2. 偏壓靶離子束沉積 3. 低能量的離子束刻蝕 產(chǎn)品特點(diǎn) 離子束刻蝕 1. 真空鎖結(jié)構(gòu)可選 2. 單片或行星式裝置 3. 射頻ICP離子源 4. 刻蝕終點(diǎn)監(jiān)測(cè) - 二次離子質(zhì)譜儀 5. 基于PC PLC的自動(dòng)化控制系統(tǒng)架構(gòu) 離子束沉積 1. 真空鎖結(jié)構(gòu)可選 2. 多靶自動(dòng)選擇 3. 射頻ICP離子源 4. 輔助沉積/表面預(yù)清洗離子源 5. 晶振和光學(xué)膜厚測(cè)量 6. 偏壓靶技術(shù)可選 產(chǎn)品應(yīng)用 1.行星式氣冷刻蝕系統(tǒng) 2.應(yīng)用于磁阻、巨磁阻的離子束沉積系統(tǒng) 3.研發(fā)型和工業(yè)型DLC硬質(zhì)薄膜沉積系統(tǒng) 4.AlN介質(zhì)膜離子束沉積系統(tǒng) 5.應(yīng)用于半導(dǎo)體存儲(chǔ)器鍍層的IBD和IBE系統(tǒng) 6.合金納米涂層濺射系統(tǒng) 7.應(yīng)用于紅外探測(cè)器的離子束沉積系統(tǒng) 8.行星式離子銑
產(chǎn)品推薦
“離子束濺射鍍膜機(jī)/離子束刻蝕機(jī)”信息由發(fā)布人自行提供，其真實(shí)性、合法性由發(fā)布人負(fù)責(zé)。交易匯款需謹(jǐn)慎，請(qǐng)注意調(diào)查核實(shí)。